北方华创ICP刻蚀机交付突破1000腔:7nm发挥重要作用

北方华创(Naura)官方宣布,ICP等离子刻蚀机第1000腔交付仪式克日在北京亦庄基地举行,NAURA刻蚀机研发团队见证了这一历史性时刻。 

北方华创示意,这不仅是公司生长征程中的主要里程碑,更是国产刻蚀机在历经了20年自主创新后获得客户普遍认可的主要标志,未来会连续在等离子刻蚀ICP手艺领域追求更多突破。

北方华创科技集团股份有限公司建立于2001年,由北京七星华创电子股份有限公司、北京北方微电子基地装备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成,是现在国内集成电路高端工艺装备的先进企业。

北方华创建立后就最先组建团队钻研刻蚀手艺,2004年第一台装备乐成起辉,2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线,并于2007年获得国家科学手艺进步二等奖。

现在,北方华创的刻蚀装备已经笼罩集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域,硅刻蚀机已突破14nm手艺,进入主流芯片代工厂。

其中,12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替换,并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着主要作用。

所谓等离子干法刻蚀,就是行使等离子体举行薄膜微细加工的手艺,具有优越的各向异性、工艺可控性,普遍应用于微电子产物制造领域。

在典型的干法刻蚀工艺过程中,一种或多种气体原子或分子混合于反映腔室中,在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体。

另外,很多人可能分不清光刻机、刻蚀机。最简朴地说,光刻机把电路图投影到笼罩有光刻胶的硅片上面,刻蚀机则是画了电路图的硅片上的多余电路图侵蚀掉。

再打个譬喻,光刻机是照相机,刻蚀机就是显影装备。

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